清华euv光刻机方案可以制造芯片。

该光刻机采用极紫外光技术，可以实现更加精细的芯片制造过程，达到纳米级别的精度要求。此外，清华euv光刻机的研发团队还在不断地优化技术，提高生产效率，为芯片制造业带来更多的发展机遇。