光学镜片的抛光方法有热流法、回蚀法、旋转式玻璃法、电子环绕共振法、低压CVD、选择淀积、淀积一腐蚀一淀积、等离子增强CVD等；

这些技术材料平面化工艺发展中都曾被应用，由于这些技术都属于材料的局部平面化技术，为了能达到全局平面化，使用抛光粉做化学机械抛光技术逐步开始发展。