evd光刻机是一种利用电子束来进行微细图案制作的设备。它的工作原理是将电子束通过电子枪产生，并通过一系列电磁透镜将其聚焦到纳米级别的尺寸。

然后，将待加工的薄膜覆盖在基片上，通过控制电子束的扫描路径，将图案逐步写入薄膜中。

最后，通过化学处理将未被电子束照射到的区域去除，形成所需的微细图案。这种光刻技术在半导体制造、光电子学和纳米器件等领域有着广泛的应用。