目前，主要的EUV（极紫外）光源种类有两种：放电产生的等离子体光源和激光产生的等离子体光源。

放电产生的等离子体光源使用高功率激光束将锂或锂化合物转化为等离子体，产生EUV辐射。

激光产生的等离子体光源则使用高功率激光束将金属材料蒸发成等离子体，产生EUV辐射。

这两种光源都能够提供足够的EUV辐射能量，用于半导体制造中的光刻技术。