大学暗室技术通常涉及以下几个方面：

暗室布局与设施

暗室应分为干区和湿区，并尽可能相隔远一些。

干区用于摆放胶片、暗盒、增感屏与洗片夹等器材，进行切片与装片等工作。

湿区用于冲洗过程中的显影、停显、定影、水洗与干燥等工作。

暗室应完全遮光，进出口处应设置过渡间与双重门，减少光线进入。

暗室应有良好的通风和恒温恒湿设施。

暗室环境要求

室温控制在20℃±5℃。

湿度控制在40%~60%。

暗室应有排风设备，换气量应达到5~10。

暗室应有白炽灯和安全红灯两种照明方式。

墙壁与地面应反光少，防水、防化学腐蚀。

显影过程

显影是黑白胶片成像的重要步骤，显影剂如ID-11和HC-110用于将潜影还原成可见的黑色颗粒。

显影温度对底片质量影响很大，一般控制在18~20℃。

显影时间、温度和浓度需根据实际情况调整。

停显与定影

停显用于立即终止显影液的作用，防止显影不均匀。

定影用于彻底去除胶片上未被显影的潜影颗粒和停止显影反应。

水洗

水洗用于彻底去除定影剂和显影剂的残留，防止影像褪色、变形和污染。

水洗温度一般应大于显影温度2℃。

其他注意事项

胶片处理过程中，光路系统需保持清洁，避免光学部件有污垢及灰尘。

显影时搅动胶片可以防止气泡附着乳剂表面，去除氧化物，提高显影效果。

显影液中加入促进剂如碳酸钠、硼砂，调节显影液的pH值在8~11之间。

以上是大学暗室技术的一些主要内容。